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Objetivo de pulverización de silicio - Objetivo de pulverización de si
Pureza: 99.999%
Densidad de relatividad: >99.9%
Resistividad: según las necesidades del cliente
Especificación/Tamaño: según las necesidades del cliente
PHILDAL HOLDING CO., LIMITED proporciona un objetivo de pulverización de silicio de alta pureza, que incluye silicio monocristalino y silicio policristalino, tipo P y tipo N.
Además de suministrar silicon target de especificaciones regulares, también podemos personalizar los especiales. El tamaño máximo del objetivo de pulverización Si que podemos producir es de 1000 mm.
Además, tenemos los siguientes objetivos de pulverización de aleaciones de silicio:
▲ Objetivo de pulverización de aluminio de silicio: Objetivo de pulverización si-al
▲ Objetivo de pulverización de silicio de titanio: Objetivo de pulverización Ti-Si
▲ Titanio aluminio silicio sputtering objetivo: Ti-Al-Si sputtering objetivo
▲ Objetivo de pulverización de cromo silicio: Objetivo de pulverización Cr-Si
▲ Cobalt Silicon sputtering target: Co-Si sputtering target
▲ Otras aleaciones especiales se pueden personalizar
Obtener contacto
Por favor, siéntase libre de enviarnos una consulta para la cita de los objetivos de pulverización de silicio u otros materiales de película delgada que no están en la lista. Le responderemos en el plazo de un día hábil.
http://es.sputtering-target-chn.com/